氧化设备工艺特点

微弧氧化设备处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术。

采用微弧氧化技术对镁及其合金材料进行表面陶瓷化处理，具有工艺过程简单，占地面积小，工艺处理能力强，生产效率高，适用于批量工业化生产等优点。

微弧氧化电解液不含有毒物质和重金属元素，电解液（环保型）抗污染能力强和再生重复使用率高，因而对环境污染小，满足环保、清洁生产的需要；

通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层，以满足不同用途的需要；也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色；

氧化槽还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理，以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。

微弧氧化槽性能

微弧氧化处理后的镁基零件表面陶瓷膜层具有硬度高（HV　300-1000）、耐蚀性强（CASS盐雾试验>480h）、绝缘性好（膜阻>100MΩ）、膜层与基底金属结合力强，陶瓷厚度在10～100微米，使镁合金表面的耐磨、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘等性能得到极大提高。

而且，表面的陶瓷层比较致密，孔隙率极低，具有很高的耐腐蚀性能，盐雾腐蚀性能提高5-10倍，综合解决了实际应用的困扰问题，为镁合金开发应用提供了技术保障，对“十五”国家科技攻关计划具有重大意义，其社会效益和经济效益将十分显著。